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一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置
一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置
【申請公布號:CN108842137A;申請權(quán)利人:湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司;發(fā)明設(shè)計(jì)人:劉光斗; 舒逸; 李贊;】
摘要:
本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),傳輸機(jī)構(gòu)包括多根穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室外的傳動桿外套有波紋管,傳動桿一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,兩塊安裝板上的馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,平移機(jī)構(gòu)包括平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與安裝板連接。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返傳輸,縮短了真空設(shè)備的長度,提高了生產(chǎn)效率。
主權(quán)項(xiàng):
1.一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。
要求:
1.一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),
所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;
所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。
2.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:所述傳動桿與安裝板之間通過磁流體密封裝置連接。
3.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:所述傳動桿與真空室側(cè)板之間通過直線軸承連接。
4.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿上的摩擦輪數(shù)量是其他傳動桿摩擦輪數(shù)量的兩倍,其摩擦輪的位置與其他傳動桿摩擦輪的位置相對應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪。
一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體說,是一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置。
背景技術(shù)
真空鍍膜生產(chǎn)線是在同一水平平面上分布有多個真空箱體,被鍍玻璃在傳送裝置的輸送下,經(jīng)過每一個真空箱體進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)表面鍍膜?,F(xiàn)有被鍍玻璃傳送采用的有兩種傳輸方式,一種是采用直線式傳輸方式,一端進(jìn)一端出,另一種是采用回傳模式,進(jìn)出都在同一端,但是這兩種模式傳輸?shù)幕M(jìn)出是在不同的真空室完成的,這樣使得真空室的數(shù)量增加,相應(yīng)的真空抽氣系統(tǒng)會明顯增加。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種能實(shí)現(xiàn)在同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返獨(dú)立傳輸?shù)幕軅魉脱b置。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。所述平移機(jī)構(gòu)在平移馬達(dá)的驅(qū)動下可帶動所述傳輸機(jī)構(gòu)整體橫向往返移動。
進(jìn)一步地,所述傳動桿與安裝板之間通過磁流體密封裝置連接。
進(jìn)一步地,所述傳動桿與真空室側(cè)板之間通過直線軸承連接。
進(jìn)一步地,在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿上的摩擦輪數(shù)量是其他傳動桿摩擦輪數(shù)量的兩倍,其摩擦輪的位置與其他傳動桿摩擦輪的位置相對應(yīng)。
進(jìn)一步地,在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明解決了多個基片架在單箱體真空環(huán)境下的平移互換功能,能實(shí)現(xiàn)在同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返傳輸,并且可以實(shí)現(xiàn)每個基片架的獨(dú)立傳輸,該裝置在整個工作過程中不會造成真空度的變化,縮短了整個真空設(shè)備的長度,縮減了整個系統(tǒng)的占用空間,提高了設(shè)備的生產(chǎn)效率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1中A側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是圖1中B側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本發(fā)明的截面圖。
圖5是本發(fā)明的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于理解本發(fā)明,下文將結(jié)合說明書附圖和較佳的實(shí)施例對本發(fā)明作更全面、細(xì)致地描述,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于以下具體的實(shí)施例。
如圖1—圖5所示,本實(shí)施例的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu)。所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根穿過真空室兩側(cè)側(cè)板101的傳動桿201,傳動桿201與真空室側(cè)板101之間通過直線軸承203連接,傳動桿201的兩端分別安裝在兩塊安裝板205上,傳動桿201與安裝板205之間通過磁流體密封裝置207連接。在真空室與安裝板205之間的傳動桿外套有波紋管204,波紋管204兩端分別與真空室側(cè)板101以及安裝板205密閉連接,在傳動桿201其中一端的末端安裝有同步帶輪206,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板205上各安裝有一馬達(dá)208,馬達(dá)208通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪209。在真空室內(nèi)的傳動桿201上裝有兩個摩擦輪202,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿201上設(shè)有四個摩擦輪202,其摩擦輪的位置與其他傳動桿上的摩擦輪的位置相對應(yīng)。
所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板102上的平移馬達(dá)301、絲杠302、絲杠螺母303、平移導(dǎo)向裝置4,所述平移馬達(dá)301通過同步帶與絲杠302連接,絲杠螺母303通過連接桿304與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板205連接,所述平移導(dǎo)向裝置4包括與真空室底板102連接的直線滑軌401以及固定住安裝板205上與直線滑軌401配合的滑塊402。
所述平移機(jī)構(gòu)在平移馬達(dá)的驅(qū)動下可帶動所述傳輸機(jī)構(gòu)橫向往返移動。
本發(fā)明的工作過程如下:
2套新基片架通過真空室進(jìn)出口進(jìn)入該傳送裝置,A側(cè)/B側(cè)摩擦輪處于中間位置承接進(jìn)入的2套新基片架,兩側(cè)馬達(dá)同時正向轉(zhuǎn)動使得2套新基片架進(jìn)入真空室,通過平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)在真空環(huán)境下由B側(cè)/A側(cè)移向到A側(cè)/B側(cè), 2套新基片架停留在A側(cè)/B側(cè)的摩擦輪上,使得靠近B側(cè)/A側(cè)的摩擦輪移動至中間位置。真空室進(jìn)入口連接工藝腔室,在工藝腔室完成鍍膜后的2套基片架通過兩側(cè)馬達(dá)各自單獨(dú)的反向轉(zhuǎn)動,先后進(jìn)入B側(cè)/A側(cè)的摩擦輪上,這樣該傳送裝置上面就有4套基片架(2套新基片架+2套完成鍍膜后的基片架),然后再通過平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)在真空環(huán)境下由A側(cè)/B側(cè)移向到B側(cè)/A側(cè),這樣2套新基片架的移動至中間位置,通過兩側(cè)馬達(dá)各自單獨(dú)的正向轉(zhuǎn)動,驅(qū)動2套新基片架先后獨(dú)立進(jìn)入工藝腔室來完成鍍膜工藝。在當(dāng)2套新基片架最后一個進(jìn)入工藝腔室的后,平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)由B側(cè)/A側(cè)移向到A側(cè)/B側(cè),使得之前完成鍍膜的2套基片架停留在中間位置,通過兩側(cè)馬達(dá)同時反向轉(zhuǎn)動,完成鍍膜的基片架同時由進(jìn)出口離開真空室,與此同時工藝腔室的2套完成鍍膜的新基片架可以通過兩側(cè)馬達(dá)反向轉(zhuǎn)動同時移動到A側(cè)/B側(cè)摩擦輪上面,然后真空室重新進(jìn)入了2套新的基片架,又開始上面的工作流程進(jìn)行循環(huán)。
在前述說明書與相關(guān)附圖中存在的教導(dǎo)的幫助下,本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將會想到本發(fā)明的許多修改和其它實(shí)施方案。因此,要理解的是,本發(fā)明不限于公開的具體實(shí)施方案,修改和其它實(shí)施方案被認(rèn)為包括在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)。盡管本文中使用了特定術(shù)語,它們僅以一般和描述性意義使用,而不用于限制。
【申請公布號:CN108842137A;申請權(quán)利人:湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司;發(fā)明設(shè)計(jì)人:劉光斗; 舒逸; 李贊;】
摘要:
本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),傳輸機(jī)構(gòu)包括多根穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室外的傳動桿外套有波紋管,傳動桿一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,兩塊安裝板上的馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,平移機(jī)構(gòu)包括平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與安裝板連接。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返傳輸,縮短了真空設(shè)備的長度,提高了生產(chǎn)效率。
主權(quán)項(xiàng):
1.一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。
要求:
1.一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),
所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;
所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。
2.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:所述傳動桿與安裝板之間通過磁流體密封裝置連接。
3.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:所述傳動桿與真空室側(cè)板之間通過直線軸承連接。
4.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿上的摩擦輪數(shù)量是其他傳動桿摩擦輪數(shù)量的兩倍,其摩擦輪的位置與其他傳動桿摩擦輪的位置相對應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,其特征在于:在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪。
一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體說,是一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置。
背景技術(shù)
真空鍍膜生產(chǎn)線是在同一水平平面上分布有多個真空箱體,被鍍玻璃在傳送裝置的輸送下,經(jīng)過每一個真空箱體進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)表面鍍膜?,F(xiàn)有被鍍玻璃傳送采用的有兩種傳輸方式,一種是采用直線式傳輸方式,一端進(jìn)一端出,另一種是采用回傳模式,進(jìn)出都在同一端,但是這兩種模式傳輸?shù)幕M(jìn)出是在不同的真空室完成的,這樣使得真空室的數(shù)量增加,相應(yīng)的真空抽氣系統(tǒng)會明顯增加。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種能實(shí)現(xiàn)在同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返獨(dú)立傳輸?shù)幕軅魉脱b置。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu),所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根橫向穿過真空室兩側(cè)側(cè)板的傳動桿,傳動桿的兩端分別安裝在兩塊安裝板上,在真空室側(cè)板與安裝板之間的傳動桿外套有波紋管,波紋管兩端分別與真空室側(cè)板以及安裝板密閉連接,在傳動桿其中一端的末端安裝有同步帶輪,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板上各安裝有一馬達(dá),馬達(dá)通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在真空室內(nèi)的傳動桿上裝有兩個或兩個以上的摩擦輪,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板上的平移馬達(dá)、絲杠、絲杠螺母、平移導(dǎo)向裝置,所述平移馬達(dá)通過同步帶與絲杠連接,絲杠螺母通過連接桿與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板連接,所述平移導(dǎo)向裝置包括與真空室底板連接的直線滑軌以及固定住安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。所述平移機(jī)構(gòu)在平移馬達(dá)的驅(qū)動下可帶動所述傳輸機(jī)構(gòu)整體橫向往返移動。
進(jìn)一步地,所述傳動桿與安裝板之間通過磁流體密封裝置連接。
進(jìn)一步地,所述傳動桿與真空室側(cè)板之間通過直線軸承連接。
進(jìn)一步地,在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿上的摩擦輪數(shù)量是其他傳動桿摩擦輪數(shù)量的兩倍,其摩擦輪的位置與其他傳動桿摩擦輪的位置相對應(yīng)。
進(jìn)一步地,在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明解決了多個基片架在單箱體真空環(huán)境下的平移互換功能,能實(shí)現(xiàn)在同一真空室環(huán)境下對多個基片架進(jìn)行往返傳輸,并且可以實(shí)現(xiàn)每個基片架的獨(dú)立傳輸,該裝置在整個工作過程中不會造成真空度的變化,縮短了整個真空設(shè)備的長度,縮減了整個系統(tǒng)的占用空間,提高了設(shè)備的生產(chǎn)效率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1中A側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是圖1中B側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本發(fā)明的截面圖。
圖5是本發(fā)明的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于理解本發(fā)明,下文將結(jié)合說明書附圖和較佳的實(shí)施例對本發(fā)明作更全面、細(xì)致地描述,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于以下具體的實(shí)施例。
如圖1—圖5所示,本實(shí)施例的一種真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)基片架傳送裝置,包括傳輸機(jī)構(gòu)和平移機(jī)構(gòu)。所述傳輸機(jī)構(gòu)包括多根穿過真空室兩側(cè)側(cè)板101的傳動桿201,傳動桿201與真空室側(cè)板101之間通過直線軸承203連接,傳動桿201的兩端分別安裝在兩塊安裝板205上,傳動桿201與安裝板205之間通過磁流體密封裝置207連接。在真空室與安裝板205之間的傳動桿外套有波紋管204,波紋管204兩端分別與真空室側(cè)板101以及安裝板205密閉連接,在傳動桿201其中一端的末端安裝有同步帶輪206,相鄰兩根傳動桿上的同步帶輪安裝位置相對,在兩塊安裝板205上各安裝有一馬達(dá)208,馬達(dá)208通過同步帶與同側(cè)的傳動桿上的同步帶輪連接,在安裝板上還設(shè)有同步帶張緊輪209。在真空室內(nèi)的傳動桿201上裝有兩個摩擦輪202,相鄰兩根傳動桿上的摩擦輪交錯排布,相隔的兩根傳動桿上的摩擦輪對應(yīng)在同一直線上;在真空室進(jìn)入口及進(jìn)出口邊的傳動桿201上設(shè)有四個摩擦輪202,其摩擦輪的位置與其他傳動桿上的摩擦輪的位置相對應(yīng)。
所述平移機(jī)構(gòu)包括安裝在真空室底板102上的平移馬達(dá)301、絲杠302、絲杠螺母303、平移導(dǎo)向裝置4,所述平移馬達(dá)301通過同步帶與絲杠302連接,絲杠螺母303通過連接桿304與所述傳輸機(jī)構(gòu)中的一塊安裝板205連接,所述平移導(dǎo)向裝置4包括與真空室底板102連接的直線滑軌401以及固定住安裝板205上與直線滑軌401配合的滑塊402。
所述平移機(jī)構(gòu)在平移馬達(dá)的驅(qū)動下可帶動所述傳輸機(jī)構(gòu)橫向往返移動。
本發(fā)明的工作過程如下:
2套新基片架通過真空室進(jìn)出口進(jìn)入該傳送裝置,A側(cè)/B側(cè)摩擦輪處于中間位置承接進(jìn)入的2套新基片架,兩側(cè)馬達(dá)同時正向轉(zhuǎn)動使得2套新基片架進(jìn)入真空室,通過平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)在真空環(huán)境下由B側(cè)/A側(cè)移向到A側(cè)/B側(cè), 2套新基片架停留在A側(cè)/B側(cè)的摩擦輪上,使得靠近B側(cè)/A側(cè)的摩擦輪移動至中間位置。真空室進(jìn)入口連接工藝腔室,在工藝腔室完成鍍膜后的2套基片架通過兩側(cè)馬達(dá)各自單獨(dú)的反向轉(zhuǎn)動,先后進(jìn)入B側(cè)/A側(cè)的摩擦輪上,這樣該傳送裝置上面就有4套基片架(2套新基片架+2套完成鍍膜后的基片架),然后再通過平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)在真空環(huán)境下由A側(cè)/B側(cè)移向到B側(cè)/A側(cè),這樣2套新基片架的移動至中間位置,通過兩側(cè)馬達(dá)各自單獨(dú)的正向轉(zhuǎn)動,驅(qū)動2套新基片架先后獨(dú)立進(jìn)入工藝腔室來完成鍍膜工藝。在當(dāng)2套新基片架最后一個進(jìn)入工藝腔室的后,平移馬達(dá)驅(qū)動整個傳輸機(jī)構(gòu)由B側(cè)/A側(cè)移向到A側(cè)/B側(cè),使得之前完成鍍膜的2套基片架停留在中間位置,通過兩側(cè)馬達(dá)同時反向轉(zhuǎn)動,完成鍍膜的基片架同時由進(jìn)出口離開真空室,與此同時工藝腔室的2套完成鍍膜的新基片架可以通過兩側(cè)馬達(dá)反向轉(zhuǎn)動同時移動到A側(cè)/B側(cè)摩擦輪上面,然后真空室重新進(jìn)入了2套新的基片架,又開始上面的工作流程進(jìn)行循環(huán)。
在前述說明書與相關(guān)附圖中存在的教導(dǎo)的幫助下,本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將會想到本發(fā)明的許多修改和其它實(shí)施方案。因此,要理解的是,本發(fā)明不限于公開的具體實(shí)施方案,修改和其它實(shí)施方案被認(rèn)為包括在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)。盡管本文中使用了特定術(shù)語,它們僅以一般和描述性意義使用,而不用于限制。
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